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基于非接触式热压印技术的微透镜阵列制作
作者：王迎春，谢丹，张鸿海* 日期：2010-12-29/span> 浏览：3554 查看PDF文档
基于非接触式热压印技术的微透镜阵列制作
王迎春，谢丹，张鸿海*
（华中科技大学 机械科学与工程学院，湖北 武汉 430074）
摘要：为了降低热压印工艺制作微透镜阵列对模具的要求，提出了非接触式热压印工艺制作微透镜阵列，采用了自主研制的纳米压印样机与光刻工艺制作的通孔式不锈钢模具在PMMA表面压印出微透镜阵列，并分析了压印过程中温度、压力、时间等参数对微透镜阵列表面形貌的影响。研究结果表明，利用非接触式热压印工艺可以制作表面形貌好、位置精度高的微透镜阵列，压印时最佳压印温度为140 ℃～180 ℃，最佳脱模温度为80 ℃，最佳压力为1 500 Pa～3 500 Pa，且采用通孔式模具不需要真空，降低了对环境的要求。
关键词：微透镜阵列；非接触式；光刻；通孔式
中图分类号：TH741.8文献标识码：A文章编号：1001-4551(2010)11-0013-04
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