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光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响*
作者：赵金余，陈晖，傅新* 日期：2011-08-01/span> 浏览：3322 查看PDF文档
光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响*
赵金余，陈晖，傅新*
（浙江大学 流体传动与控制国家重点实验室，浙江 杭州 310027）
摘要：不同的浸没单元结构会影响缝隙流场的流动状态，为了研究浸没单元结构参数对缝隙流场流动的影响规律，通过计算流体动力学（CFD）仿真，对浸没流场的流动进行了数值模拟，开展了不同的浸没单元的注液口形状和流场高度所形成的缝隙流场的流动状态分析。研究结果表明：90°~150°的注液口和0.7 mm~1 mm的缝隙高度为理想的结构参数。
关键词：浸没式光刻；浸没单元；缝隙流场；流动仿真；计算流体动力学
中图分类号：TH137文献标志码：A文章编号：1001-4551(2011)05-0545-03
本文的文献著录格式：
赵金余，陈晖，傅新.光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响[J],机电工程,2011,28(5):545-547,604.
ZHAO Jinyu, CHEN Hui, FU Xin.Impact on fluid flow state by different structural parameters of immersion lithography unit[J],Journal of Mechanical & Electrical Engineering,2011,28(5):545-547,604.
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