《机电工程》杂志,月刊( 详细... )
中国标准连续出版物号: ISSN 1001-4551 CN 33-1088/TH
主办单位:浙江省机电集团有限公司
浙江大学
主编:陈 晓
副 主 编:唐任仲、罗向阳(执行主编)
总 经 理:罗向阳
出 版:浙江《机电工程》杂志社有限公司
地 址:杭州市上城区延安路95号浙江省机电集团大楼二楼211、212室
电话Tel:+86-571-87041360、87239525
E-mail:meem_contribute@163.com
国外发行:中国国际图书贸易总公司
订阅:全国各地邮局 国外代号:M3135
国内发行:浙江省报刊发行局
邮发代号:32-68
广告发布登记证:杭上市管广发G-001号
在线杂志 |
当前位置: 机电工程 >>在线杂志 |
声悬浮抛光磨粒微流场研究*
作者:林 云,王正伟,文东辉*,欧长劲 日期:2013-06-14/span> 浏览:2856 查看PDF文档
声悬浮抛光磨粒微流场研究*
林 云,王正伟,文东辉*,欧长劲
(浙江工业大学 机械工程学院, 浙江 杭州 310014)
摘要: 为了解决纳米试样超光滑表面的制备问题,将能提供稳定声压场的声悬浮抛光技术应用到流体抛光中,开展了声压场和磨粒流场之间关系的分析。利用Matlab /PDE工具箱对抛光装置内部声压仿真的方法,对比不同反射端对抛光槽声压场的影响,优化了适合抛光的反射端形状尺寸和发射端与反射端之间的距离。利用PIV测试分析了磨粒流场与声压场的相关性,建立了声压场和磨粒流场之间的关系。试验结果表明,磨粒的运动方向与声压等势线大致相同,而且磨粒的最大速度与声压大小成正比。
关键词: 声悬浮; 流体抛光; 磨粒流; PIV; 微流动
中图分类号: TG664;TH162+.1 文献标志码:A 文章编号:1001-4551(2013)03-0281-03
本文的文献著录格式:
林 云,王正伟,文东辉,欧长劲.声悬浮抛光磨粒微流场研究[J].机电工程,2013,30(3):281-283,287.
LIN Yun, WANG Zheng wei, WEN Dong hui, OU Chang jing.Reasearch of abrasive microflow for acoustic suspension polishing[J].Journal of Mechanical & Electrical Engineering,2013,30(3):281-283,287.
友情链接