真空镀膜领域射频叠加直流偏压技术研究*

作者：陈树君1，王海亮1，刘 松1，李振东 日期：2013-11-08/span> 浏览：2447 查看PDF文档

真空镀膜领域射频叠加直流偏压技术研究*

陈树君1，王海亮1，刘  松1，李振东2，王建新1，徐晶晶1
（1. 北京工业大学 机械工程与应用电子技术学院， 北京 100124；
2. 中国农业机械化科学研究院， 北京 100083）

摘要： 针对射频辉光放电过程中射频电源与直流偏压电源的叠加问题，通过分析阻抗匹配网络和高频屏蔽网络的工作原理，利用阻抗匹配网络将射频电源的高频能量最大效率的输出到真空室，利用高频屏蔽网络将射频电源的高频能量进行屏蔽的同时将直流偏压电源的低频能量最大效率的输出到真空室。对射频辉光放电过程中射频电源、直流偏压电源以及真空室模型进行了系统的电路仿真，实现了射频电源与直流偏压电源的叠加，利用自制的射频电源与直流偏压电源系统进行了真空镀膜实验，证实了双电源系统的可行性。研究结果表明，利用阻抗匹配网络和高频屏蔽网络能够很好地将射频电源与直流偏压电源进行叠加，由双电源系统产生的带有负偏压的高频能量能够对真空镀膜工艺产生影响，有助于探索新的镀膜工艺。
关键词： 射频电源； 直流偏压； 阻抗匹配； 真空镀膜
中图分类号： TN702； TQ153.7； TH140      文献标志码：A  文章编号：1001-4551（2013）08-0919-06

本文的文献著录格式：

陈树君，王海亮，刘  松，李振东，王建新，徐晶晶.真空镀膜领域射频叠加直流偏压技术研究[J].机电工程,2013,30(8):919-923,955.
CHEN Shu-jun， WANG Hai-liang， LIU Song， LI Zhen-dong， WANG Jian-xin， XV Jing-jing.Research of RF superimposed DC bias in field of vacuum coating[J].Journal of Mechanical & Electrical Engineering,2013,30(8):919-923,955.