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无理数转速比下的平面研磨轨迹均匀性研究*

作者：姬孟托，洪滔，文东辉*，陈珍珍，蔡东海日期：2016-06-27/span> 浏览：3133 查看PDF文档

无理数转速比下的平面研磨轨迹均匀性研究*

姬孟托，洪滔，文东辉*，陈珍珍，蔡东海

(浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室，浙江杭州 310014)

摘要：平面研磨过程中磨粒与工件的相对运动轨迹分布对工件表面质量有重要影响。针对有理数转速比下的研磨加工过程中磨粒轨迹重复的问题，对磨粒相对工件的运动轨迹进行了研究，分析了典型的定偏心式主驱动方式平面研磨过程中磨粒轨迹对抛光均匀性的影响，提出了一种无理数转速比的平面研磨加工方法，利用Matlab工具对无理数转速比平面研磨加工进行了运动学仿真，理论分析了基于螺旋线磨粒排布的研磨盘在无理数转速比下的磨粒轨迹均匀性。仿真结果表明，无理数转速比下的磨粒轨迹线是开放的，其在均匀性方面优于有理数；对于不同无理数转速比，研磨轨迹均匀性随着转速比的增大而提高，但随着研磨时间的增加其均匀性趋于相同。该研究为无理数转速比平面研磨抛光设备的研制提供理论依据。

关键词：平面研磨；磨粒轨迹；无理数转速比；轨迹均匀性

中图分类号：TH16;TG580.6 文献标志码：A 文章编号：1001-4551(2016)05-0532-05

本文引用格式：

姬孟托，洪滔，文东辉,等.无理数转速比下的平面研磨轨迹均匀性研究［J］.机电工程，2016，33(5)：532-536.

JI Meng tuo, HONG Tao, WEN Dong hui, et al. Analytical study on uniformity of path distribution with irrational rotational speed ratio in plan lapping process［J］.Journal of Mechanical & Electrical Engineering, 2016,33(5):532-536.

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