研磨驱动方式和转速比对磨粒运动 轨迹的影响研究*

作者：杨杰，洪滔，文东辉*，等 日期：2018-06-12/span> 浏览：2627 查看PDF文档

                                                                 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究*
                                                                  杨杰，洪滔，文东辉*，陈珍珍，张丽慧，姬孟托
                                          (浙江工业大学 特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室，浙江 杭州 310014)

摘要：针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题，引入了无理转速比概念，以进一步提升研磨加工均匀性。建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型，通过Matlab进行了运动学仿真，对两种驱动方式和不同转速比下的单颗与多颗磨粒运动轨迹进行了对比研究，最后用离散系数对两种驱动方式在不同转速比下的研磨轨迹均匀性进行了分析。研究结果表明：当转速比为有理数时，研磨轨迹重复，转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较大；而当转速比为无理数时，研磨轨迹开放不闭合，其轨迹均匀性优于有理数的，且转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较小；该研究为选择合理的驱动方式与转速比提供了理论依据，有利于工件被加工表面质量的提高。

关键词：研磨轨迹；驱动方式；无理数转速比；轨迹均匀性

中图分类号：TH16;TG580.6                       文献标志码：A                     文章编号：1001-4551(2018)05-0453-06

本文引用格式：
杨杰，洪滔，文东辉,等.研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究［J］.机电工程，2018，35(5)：453-458.
YANG Jie, HONG Tao, WEN Dong hui, et al. Influence of lapping drive mode and rotational speed ratio on the track of abrasive particles［J］.Journal of Mechanical & Electrical Engineering, 2018,35(5):453-458.
《机电工程》杂志：http://www.meem.com.cn