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圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化

作者：高春甫，郑强，杨青形日期：2020-01-14/span> 浏览：2081 查看PDF文档

圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化*

高春甫，郑强，杨青形

（浙江师范大学机械测控与设备技术研究所，浙江金华 321004）

摘要：针对传统加工技术存在表面损伤、加工效率低的问题，将极具前景的面接触式超精密磁流变抛光技术应用到3C制造业中。对圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中的抛光垫的形貌进行了研究分析，发现圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中存在一种“环状效应”，利用“环状效应”对圆柱型永磁体磁流变抛光头进行了结构设计，并对其进行了设计理念分析；对圆柱型永磁体抛光头在6061的铝合金工件上进行了单因素抛光实验，通过实验获得了最优参数。研究结果表明：该圆柱型永磁体磁流变抛光头能够实现环状加工区域的高效光滑平坦化加工，工件表面粗糙度达到52 nm，材料去除率达9.1 μm/min，大大提高了磁流变抛光的效率，为面形精度在微米级的超光滑平面的制造提供了一种高效的加工方法。
关键词：圆柱型永磁体；面接触；超精密磁流变抛光；环状效应；高效光滑平坦化加工

中图分类号：TH122；TB381 文献标识码：A 文章编号：1001-4551(2019)12-1286-04

本文引用格式：
高春甫，郑强，杨青形.圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化［J］.机电工程，2019，36(12)：1286-1289.
GAO Chunfu, ZHENG Qiang, YANG Qingxing. Design of cylindrical permanent magnet magnetorheological polishing head and its parameter optimization［J］.Journal of Mechanical & Electrical Engineering, 2019,36(12):1286-1289.
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